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부분을 비교 분석하였다 분석대상별 분석조건은 다음과 같다 π 。돌 o r’~ 분 석 조 건 비 고 벽화강회 문양및바 Vacuum, 35kV, O.5mA, 30마Lm Collimator, Si Detector EJ- 범자문양 Vacuum, 35kV, O.3mA, 30αLm Collimator, Si Detector 칠표면 Vacuum, 35kV, 0.6mA, 300μm Collimator, Si Detector 벽화 석회는 미소부X선회절분석기α1icro 따ea X-ray Diffraction System: MXRD, MacScience, Model .f\.αP18VA)를 이용하여 결정화합물을 분석하였다. 미소부X선회절분 석기의 분석조건은 40kV, 200mA, 100μm Collimator 및 cu Target을 시-용하였다. 또한 시 료 계측시 분석시간은 1C뻐초로 하였고, 계측 후 분석데이터는 피크 매칭(peak matching) 프로그램을 이용하여 각 피크를 동정하였다 IlI. 조사결과 3.1. 벽화조사 결과 현장에서 석실의 벽화보존은 외부의 공기 유입에 따른 벽화의 건조와 박락 방지를 위해 석실입구와 봉분 위를 차단비닐 막으로 덮고, 석실내부에 가습기를 설치하여, 보 존환경을 R.H. 97% 이상(온·습도측정기 관찰)이 유지되도록 조절해주는 상태이었다. 또한 발굴 작업도 작업공간을 최소로 하여 외부 공기가 쉽게 유입할 수 없는 조건이었 다 벽화의 적외선촬영을 위한 공간은 상대적으로 매우 협소한 상태였으며, 고분의 석 실도 협소하고, 목관은 수습되지 않고 조사중이어서, 촬영장비를 석설의 내부에 설치하 여 조사하는 것은 어려웠다 이에 목관의 손상이 없고, 조사장비의 설치가 가능한 석실 남단벽 입구에 적외선촬영장비를 설치하여 벽화를 조사하였다 따라서 작업공간이 부 족한 조건으로 벽화의 적외선촬영 조사는 육안관찰로 확인이 가능한 벽화보다 빗물에 의한 오염으로 육안관찰이 어려운 벽화부분의 원형을 확인하기 위해 부분적으로 촬영 - 258 -